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行业新闻

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  • 什么是研磨机

    研磨机是指用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。
    发布时间:2020-09-16   点击次数:3

  • 离子研磨机特点

    研磨是超精密加工中一种重要加工方法,其优点是加工精度高,加工材料范围广。但传统研磨存在加工效率低、加工成本高、加工精度和加工质量不稳定等缺点,这使得传统研磨应用受到了一定限制。本项目解决了传统研磨存在的绝大部分缺点,提高了研磨技术水平,在保
    发布时间:2020-09-16   点击次数:4

  • 圆盘式研磨机

    圆盘式研磨机研磨机分单盘和双盘两种,以双盘研磨机应用最为普通。在双盘研磨机(见图[双盘研磨机])上,多个工件同时放入位于上、下研磨盘之间的保持架内,保持架和工件由偏心或行星机构带动作平面平行运动。下研磨盘旋转,与之平行的上研磨盘可以不转,或
    发布时间:2020-09-16   点击次数:1

  • 聚焦离子束(FIB)技术介绍

    聚焦离子束(FIB)技术介绍1.引言随着纳米科技的发展,纳米尺度制造业发展迅速,而纳米加工就是纳米制造业的核心部分,纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束(FIB)技术利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加
    发布时间:2017-11-04   点击次数:239

  • FIB聚焦离子束的技术

    FIB聚焦离子束的技术1、聚焦离子束技术(FIB)聚焦离子束技术(FocusedIonbeam,FIB)是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展,纳米尺度制造业
    发布时间:2017-11-04   点击次数:268

  • X射线光电子能谱仪技术

    X射线光电子能谱技术X射线光电子能谱技术(X-rayphotoelectronspectroscopy,简称XPS)是一种表面分析方法,使用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来,被光子激发出来的电子称为光电子,
    发布时间:2017-11-04   点击次数:117

  • 电子显微镜样本处理

    电子显微镜样本处理在使用透视电子显微镜观察生物样品前样品必须被预先处理。随不同研究要求的需要科学家使用不同的处理方法。固定:为了尽量保存样本的原样使用戊二醛来硬化样本和使用锇酸来染色脂肪。 
    发布时间:2016-08-05   点击次数:98

  • 日立能谱仪性能特点

    日立能谱仪性能特点能谱仪当光子进入检测器后,在Si(Li)晶体内激发出一定数目的电子空穴对。产生一个空穴对的最低平均能量ε是一定的(在低温下平均为3.8ev),因此由一个X射线光子造成的空穴对的数目N=△E/ε。入射X射线光子的能量越高,N
    发布时间:2016-08-04   点击次数:71

  • 日立电子显微镜的现状与展望

    日立电子显微镜的现状与展望本文扼要介绍了电子显微镜的现状与展望。透射电子显微镜方面主要有:高分辨电子显微学及原子像的观察,像差校正电子显微镜,原子尺度电子全息学,表面的高分辨电子显微正面成像,超高压电子显微镜,中等电压电镜,120kV,10
    发布时间:2016-08-02   点击次数:75

  • 日立电子显微镜的缺点

    日立电子显微镜的缺点1.在电子显微镜中样本必须在真空中观察,因此无法观察活样本。随着技术的进步,环境扫描电镜将逐渐实现直接对活样本的观察;2.在处理样本时可能会产生样本本来没有的结构,这加剧了此后分析图像的难度;3.由于电子散射能力极强,容
    发布时间:2016-08-02   点击次数:80

  • 扫描日立电子显微镜简要介绍

    扫描日立电子显微镜简要介绍扫描电镜的制造是依据电子与物质的相互作用。当一束高能的入射电子轰击物质表面时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。同时,
    发布时间:2016-07-30   点击次数:79

  • 日立能谱仪

    能谱仪(EDS,EnergyDispersiveSpectrometer)是用来对材料微区成分元素种类与含量分析,配合扫描电子显微镜与透射电子显微镜的使用。中文名能谱仪外文名EDS,EnergyDispersiveSpectr
    发布时间:2016-07-30   点击次数:97

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